A Doutora Fabiana Magalhães Teixeira Mendes é pesquisadora do Instituto Nacional de Tecnologia (INT) desde Junho de 2009. Possui graduação em Engenharia Química pela Universidade Federal do Rio de Janeiro (1990), mestrado em Química Inorgânica pela Universidade Federal do Rio de Janeiro (1995) e doutorado em Engenharia Química pela Universidade Federal do Rio de Janeiro (2000). No período de 2003 a 2005 realizou seu pós- Doutorado no Instituto Fritz-Haber der Max-Planck-Berlin, Alemanha, onde aprofundou seus conhecimentos nas técnicas que operam em ultra-alto vácuo, entre elas a de Espectroscopia Fotoeletrônica por raios X (XPS). Retornando ao Brasil, iniciou um projeto de pesquisa no programa de Engenharia Metalúrgica de Materiais (PEMM-UFRJ) a convite do Professor Carlos Alberto Achete. Neste período, desenvolveu estudos com filmes óxidos de metais de transição sobre monocristais. Seus estudos tiveram início no equipamento de espectroscopia fotoeletrônica por raios X (XPS) do laboratório de superfícies do referido programa. Dando continuidade ao projeto de pesquisa teve a oportunidade de acompanhar e operar, a partir de 2007, a instalação do Espectrômetro de elétrons da divisão de materiais – Dimat, do INMETRO (Instituto Nacional de Metrologia, Normalização e Qualidade Industrial) e de continuar suas pesquisas implementando o novo laboratório. Sua experiência com câmaras de ultra-alto vácuo (UHV) inclui, além de ter trabalhado em cinco diferentes equipamentos (Brasil e Alemanha), outras técnicas como difração de elétrons de baixa energia (LEED) e Espectroscopia eletrônica Auger (AES).
